Chemical Vapor Deposition (CVD)

Chemical Vapor Deposition of CVD gaat als volgt:

1. Je plaatst de wafer in een proceskamer en brengt de kamer op een hoge temperatuur.
2. Je blaast twee gassen in de kamer: een gas met silicium, bijvoorbeeld Silaan (SiH₄), en een gas met zuurstof, bijvoorbeeld O₂.
3. De gassen reageren chemisch op elkaar, ze veroorzaken een neerslagreactie en vormen een dun laagje siliciumdioxide op de wafer.