Proces 1: Depositie
Depositie is het toevoegen van een extra laag materiaal aan de wafer.
Dat materiaal kan heel divers zijn: een isolator, een halfgeleider, een metaal, een fotogevoelige laag,...
Welk materiaal je toevoegt hangt af van het onderdeel dat je aan het bouwen bent. Wil je een isolator, dan kan je bv. siliciumdioxide toevoegen. Wil je een weg voor elektronen, dan
moet je een metaal toevoegen.
Vanaf nu leiden we je door het opbouwen van een transistor op de wafer.
In de eerste stap (van de honderden stappen die gebeuren), bedek je de gehele wafer met een een goede isolator. Hiervoor kan je siliciumdioxide (SiO2) gebruiken.
Waarom gebruiken we siliciumdioxide? Lees meer.
Het bouwen van die laag gebeurt via ‘Chemical Vapor Deposition’ of CVD noemen.
Klik op de onderstaande knop voor meer informatie over CVD.
Meer over CVD
Sleep de lijn hieronder om de evolutie van deze stap te zien.